伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制OSR膜层商易网

某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR.

伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

portant;"> 型号	portant;"> RFICP 140
portant;"> Discharge	portant;"> RFICP 射频
portant;"> 离子束流	portant;"> >600 mA
portant;"> 离子动能	portant;"> 100-1200 V
portant;"> 栅极直径	portant;"> 14 cm Φ
portant;"> 离子束	portant;"> 聚焦, 平行, 散射
portant;"> 流量	portant;"> 5-30 sccm
portant;"> 通气	portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
portant;"> 典型压力	portant;"> < 0.5m Torr
portant;"> 长度	portant;"> 24.6 cm
portant;"> 直径	portant;"> 24.6 cm
portant;"> 中和器	portant;"> LFN 2000

推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.

其工艺流程为:

在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.

先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.

为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下：

portant;"> 分子泵型号	portant;"> 界面 DN		portant;"> 抽速 l/s			portant;"> 压缩比	portant;"> 最高启动压强mbar	portant;"> 极限压力	portant;"> 全转速气体流量hPa l/s	portant;"> 启动时间	portant;"> 重量
portant;"> 分子泵型号	portant;"> 进气	portant;"> 排气	portant;"> 氮气 N2	portant;"> 氦气He	portant;"> 氢气 H2	portant;"> 氮气 N2	portant;"> 氮气N2	portant;"> hPa	portant;"> 氮气N2	portant;"> min	portant;"> kg
portant;"> Hipace 1800	portant;"> 200	portant;"> 40	portant;"> 1,450	portant;"> 1,650	portant;"> 1,700	portant;"> > 1X108	portant;"> 1.8	portant;"> < 1X10–7	portant;"> 20	portant;"> 4	portant;"> 33 – 34

运行结果:

KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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