伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装商易网

在 LED（发光二极管）封装工艺工程中, 器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品的可靠性, 影响产品的质量. 某 LED制造商为了保证有效清洗 LED 器件表面的氧化物及颗粒污染物, 采用伯东伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 在LED 封装前进行离子清洗.

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 技术参数:

portant;"> 离子源型号	portant;"> RFICP220
portant;"> Discharge	portant;"> RFICP 射频
portant;"> 离子束流	portant;"> >800 mA
portant;"> 离子动能	portant;"> 100-1200 V
portant;"> 栅极直径	portant;"> 20 cm Φ
portant;"> 离子束	portant;"> 聚焦, 平行, 散射
portant;"> 流量	portant;"> 10-40 sccm
portant;"> 通气	portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
portant;"> 典型压力	portant;"> < 0.5m Torr
portant;"> 长度	portant;"> 30 cm
portant;"> 直径	portant;"> 41 cm
portant;"> 中和器	portant;"> LFN 2000

客户清洗的工作流程:

在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击LED上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉.

为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hPa, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 UC, 该型号可以倒装和抗腐蚀,

伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 技术参数：

portant;"> 分子泵型号	portant;"> 接口 DN		portant;"> 抽速 l/s			portant;"> 压缩比	portant;"> 最高启动压强mbar	portant;"> 极限压力	portant;"> 全转速气体流量hPa l/s	portant;"> 启动时间	portant;"> 重量
portant;"> 分子泵型号	portant;"> 进气	portant;"> 排气	portant;"> 氮气 N2	portant;"> 氦气He	portant;"> 氢气 H2	portant;"> 氮气 N2	portant;"> 氮气N2	portant;"> hPa	portant;"> 氮气N2	portant;"> min	portant;"> kg
portant;"> Hipace 1800 UC	portant;"> 200	portant;"> 40	portant;"> 1,450	portant;"> 1,650	portant;"> 1,700	portant;"> > 1X108	portant;"> 1.8	portant;"> < 1X10–7	portant;"> 20	portant;"> 4	portant;"> 33 – 34

运行结果:

1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物

从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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