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其系统工作示意图如下：
该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双离子源、溅射靶、基片台等部分组成.
其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.
用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下:
伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：
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portant;">
射频离子源型号 |
portant;">
RFICP 380 |
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portant;">
Discharge 阳极 |
portant;">
射频 RFICP |
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portant;">
离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
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portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
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portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦 |
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portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
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portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
长度 |
portant;">
39 cm |
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portant;">
直径 |
portant;">
59 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推荐理由：
聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染
用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
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portant;">
离子源型号
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portant;">
霍尔离子源
eH3000 |
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portant;">
Cathode/Neutralizer |
portant;">
HC |
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portant;">
电压 |
portant;">
50-250V |
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portant;">
电流 |
portant;">
20A |
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portant;">
散射角度 |
portant;">
>45 |
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portant;">
可充其他 |
portant;">
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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portant;">
气体流量 |
portant;">
5-100sccm |
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portant;">
高度 |
portant;">
6.0“ |
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portant;">
直径 |
portant;">
9.7“ |
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portant;">
水冷 |
portant;">
可选 |
其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5Pa, 经推荐采用伯东分子泵组 Hicube 80 Pro, 其技术参数如下：
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portant;">
进气法兰 |
portant;">
氮气抽速 |
portant;">
极限真空 hpa |
portant;">
前级泵 型号 |
portant;">
前级泵抽速 |
portant;">
前级真空 |
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portant;">
DN 40 ISO-KF |
portant;">
35 |
portant;">
< 1X10-7 |
portant;">
Pascal 2021 |
portant;">
18 |
portant;">
AVC 025 MA |
运行结果：
伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
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