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    射频离子源RFICP 380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜

    采购类型:
    • 价格要求: 电议
    • 采购数量:大量
    • 包装要求:无要求
    • 采购情况:长期有效
    • 所在地:广东深圳市
    • 发布日期:2021-06-17 11:16
    • 信息有效期: 长期有效
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    采购信息描述
    • 所在地:广东深圳市
    • 有效期至:长期有效
    • 浏览次数:23
       薄膜表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有重要关系, 直接决定机械产品的使用寿命和可靠性. 因此, 某薄膜制造商为了获得优质的 Cu 薄膜, 采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 霍尔离子源 eH 2000  分子泵组 Hicube 30 Eco 辅助溅射沉积 Cu 薄膜.

     

    该制造商的镀膜机设备采用双离子束溅射沉积系统, 该设备的本底真空为5x10-5 Pa, 溅射气体使用 Ar+ 粒子, 靶材成分为 99.99% Cu, 衬底为硅片.

     

    其双离子束溅射沉积系统工作示意图如下:

     

     

    其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.

     

    用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380,

     

    伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:
    portant;">

    射频离子源型号

    portant;">

    RFICP 380

    portant;">

    Discharge 阳极

    portant;">

    射频 RFICP

    portant;">

    离子束流

    portant;">

    >1500 mA

    portant;">

    离子动能

    portant;">

    100-1200 V

    portant;">

    栅极直径

    portant;">

    30 cm Φ

    portant;">

    离子束

    portant;">

    聚焦

    portant;">

    流量

    portant;">

    15-50 sccm

    portant;">

    通气

    portant;">

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    portant;">

    典型压力

    portant;">

    < 0.5m Torr

    portant;">

    长度

    portant;">

    39 cm

    portant;">

    直径

    portant;">

    59 cm

    portant;">

    中和器

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    LFN 2000

     

    推荐理由:

    聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染

     

    用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 2000

     

    伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 2000 技术参数:
    portant;">

    离子源型号

     

    portant;">

    霍尔离子源

    eH2000

    portant;">

    Cathode/Neutralizer

    portant;">

    F or HC

    portant;">

    电压

    portant;">

    50-300V

    portant;">

    电流

    portant;">

    10A

    portant;">

    散射角度

    portant;">

    >45°

    portant;">

    可充其他

    portant;">

    Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

    portant;">

    气体流量

    portant;">

    2-75sccm

    portant;">

    高度

    portant;">

    4.0“

    portant;">

    直径

    portant;">

    5.7“

    portant;">

    水冷

    portant;">

     

    其溅射室需要沉积前本底真空抽到1×10-5Pa, 经推荐采用伯东分子泵组 Hicube 30 Eco, 其技术参数如下:

    分子泵组 Hicube 30 Eco 技术参数

    portant;">

    泵组型号

    portant;">

    进气法兰

    portant;">

    分子泵
    型号

    portant;">

    抽速
    氮气l/s

    portant;">

    极限真空
     hPa

    portant;">

    前级泵型号

    portant;">

    前级泵
    抽速 m³/h

    portant;">

    Hicube 30 Eco

    portant;">

    DN 40 ISO-KF

    portant;">

     Hipace 30

    portant;">

    22

    portant;">

    1X10-7

    portant;">

    MVP 030-3

    portant;">

    1.8

     

    实际运行结果:

    1. 双离子束溅射制备的薄膜由于其他方法生长的薄膜, 薄膜的表面平整度、厚度均匀性更好
    2. 绝对沉积角必须要避开 25°附件的位置, 这一位置的粗糙度太大, 生长出的薄膜表面的各方面性质远低于其他位置

     

    伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

     

     

    若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

    上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
    ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
    www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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