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试验设备:
伯东 KRI 聚焦射频离子源 RFICP 220 进行溅射, 选用 ZAO 陶瓷靶, 基片为普通玻璃, 普发 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3.
工艺要求:
靶与基片距离为5cm, 溅射时间为30 min
伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 220 技术参数:
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portant;">
离子源型号 |
portant;">
RFICP 220 |
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portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
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portant;">
离子束流 |
portant;">
>800 mA |
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portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
栅极直径 |
portant;">
20 cm Φ |
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portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦 |
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portant;">
流量 |
portant;">
10-40 sccm |
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portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
长度 |
portant;">
30 cm |
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portant;">
直径 |
portant;">
41 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推荐理由:
聚焦型射频离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染
在整个实验工艺中工作气压保持在 3x 10-1Pa, 因此采用伯东 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3.
伯东 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3 技术参数如下:
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
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