KRI 离子源可用于辅助镀膜技术 IAC

离子源

离子源是产生所需离子的关键部件, 它的种类与质量决定着制备膜层的性能和质量. KRI 考夫曼离子源, 它能产生气体元素的大面积离子束, 适合用于离子束溅射镀膜、对膜层进行离子束轰击以及对工件进行离子束表面清洗.

伯东为客户提供栅极离子源和无栅离子源, 客户可根据自己的工艺需求, 选择不同的离子源.

伯东 KRI 离子源有:
KRI 射频离子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40
KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

靶室
靶室是装载工件, 进行离子束表面处理的部件, 它的容积大小、靶的工件夹具机构及其运动方式, 随工件种类的不同, 差异很大.

工艺参数控制
精确控制工艺参数, 保证工件表面的沉积原子数与轰击原子数达到一定的比例, 对膜层的性能和质量至关重要.

KRI 离子源在创新设计, 产品质量和技术专长方面享誉全球. 这些离子源可输出高质量和稳定的离子束, 通过控制器可以实现精确控制, 以提供确定的形状, 电流密度和离子能量.


实际应用证明, 离子源用在镀膜技术 IAC可制备出结合力很强的具有各种特殊的膜层, 如ZrN、ZrC、BN、TiO2和类金刚石碳膜等.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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