KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层

常用的固体润滑剂MoS₂涂层蒸气气压低、迁移性弱, 作为固体润滑剂的航空航天领域. 真空环境中得到广泛的应用, 在2000℃真空环境中依然具有很低的摩擦因数.

随着科技发展, 离子源技术引入物理气相沉积技术, 用于工模具涂层材料制备, 一直是 PVD 涂层技术的研究热点.

离子源在涂层制备过程中首先可以清洗衬底获得清洁的表面, 其次高的离子/原子比率有利于获得高性能的涂层.

某大型研究结构采用 KRI 射频离子源用于研究离子源辅助制备MoS₂ 自润滑涂层. 其系统示意图如下:

其中 KRI 射频离子源安装在右侧，左侧为钼靶, 真空泵安装在真空腔体里侧.

客户采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380, 同时为了获得稳定的合适的真空环境, 伯东工程师为制造商搭配大抽速分子泵组 Hicube 700 Pro, 采用金属密封, 极限真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 L/s.

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

运行结果：

KRI 射频离子源 RFIC 380成功用于辅助制备MoS₂自润滑涂层, 对MoS₂涂层有减膜作用,大大提高了MoS₂涂层润滑.

上海伯东是美国考夫曼公司 KRI 离子源的国内总代理商, 其中KRI 离子源主要型号有:

KRI 射频离子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

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