KRI射频离子源RFICP 220辅助磁控溅射镀制3D玻璃膜

其磁控溅射镀膜工艺流程如下图:

磁控溅射镀膜原理：

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞, 电离出大量的氩离子和电子, 电子飞向基片. 氩离子在电场的作用下加速轰击靶材, 溅射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜.

伯东 KRI 聚焦射频离子源 RFICP 220 技术参数:

运行结果:

使用伯东KRI  聚焦射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜, 保证镀膜的质量, 所生产出的陶瓷手机盖板镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源, 提高生产率.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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