EH 3000HC应用于天文望远镜片离子辅助镀膜工艺IBAD

美国考夫曼公司中空阴极中和器霍尔离子源 EH 3000HC已成功被应用于应用于直径 2.2米天文望远镜镜片离子辅助镀膜工艺 (Ion Beam Assisted Deposition, IBAD). EH 3000HC 离子束具有业界中最高广角的涵盖面积及最高密度的离子浓度, 在离子辅助镀膜工艺镀膜中可以获得高均匀性及高致密性的膜层.

实际案例:

设备: 3米蒸镀镀膜机.

基材: 2.2米天文望远镜镜片.

离子源条件: Vb: 120V(离子束阳极电压), Ib: 14A(离子束阳极电流), O2 gas: 45sccm(氧气).

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KRI 霍尔离子源 eH 3000
上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制

上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国 KRI 霍尔离子源已广泛应用于离子辅助镀膜应用(IBAD), 高密度的离子浓度, 广角度涵盖面积的离子束, 可控制离子的强度及浓度可获得高质量的膜层抛. KRI 霍尔源系列可依客户镀膜机尺寸及基材尺寸及工艺条件选择相关型号:

KRI End Hall (霍尔离子源) 型号: EH400, EH1000, EH2000, EH3000.

上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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