伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电, 产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下, 荷正电的离子轰击阴极表面, 使阴极表面材料原子化；形成的中性原子, 从各个方向溅出, 射落到试样的表面, 于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜.

伯东 KRI考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射 (Sputtering) 时靶材 (Target) 被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射 (Sputtering) 工艺条件选择 RFICP 离子源 (射频电源式考夫曼离子源) 或是 KDC 离子源 (直流电原式考夫曼离子源).

规格如下:

RFCIP 离子源 (射频式考夫曼离子源) : RFICP 40, RFICP 100, RFICP 140, RFICP 220, RFICP 380 

KDC 离子源 (直流式考夫曼离子源): KDC10, KDC40, KDC75, KDC100, KDC160.

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) KRI 离子源大中国区总代理.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, Gel-Pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                   ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!