KRI考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积 BCx 薄膜

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

试验结论:

相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大, 硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能, 当石墨靶电流为 2.4A 时, BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右, 且具有最jia的耐磨性能。

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

KRI 离子源是领域公认的领导者, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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