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供应 高纯钨靶 高纯钨钛靶
用途：高纯钨靶和高纯钨钛合金靶、钨硅复合靶材通常被施以磁控溅射的方式制作各种复杂和高性能的薄膜材料。由于高纯钨或超纯钨（
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2021-08-02 |
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钌靶 钌溅射靶材 钌整空间上靶
钌靶主要用于真空镀膜领域纯度：99.95%用途：真空镀膜，实验或研究级别用钌靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等规格01多
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2021-08-02 |
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钨铼靶材 钨铼CT球管靶
产品说明钨铼配比：WRe3%,WRe5%,WRe10%, WRe25%,WRe26%尺寸范围：厚（0.2-20）×宽（≯500）×长（≯1000）我司采用固液法混料提
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2021-08-02 |
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高纯钛靶定制 欧泰供应钛溅射靶材
用途：高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。技术参数：纯度：4N-5N尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm可根
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2021-08-02 |
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欧泰供应各种金属溅射靶材 钽靶 钽圆靶
钽，金属元素，主要存在于钽铁矿中，同铌共生。钽的质地十分坚硬，硬度可以达到6-6.5。它的熔点高达2996℃，仅次于钨和铼，位居
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2021-08-02 |
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欧泰供应各种金属溅射靶材 铱靶 铱溅射靶材
名称：铱CAS：7439-88-5符号：Ir导热性：147W/(m·K)原子量：192.22密 度：22.56g/cm3纯度：3N5电阻率：47.1 nΩ·m (at 20 °C)
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2021-08-02 |
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