| 图片 |
标 题 |
更新时间 |
 |
耐热耐磨材料用氮化钛
技术参数 粒 度:纳米级（20nm50nm 100nm200nm500nm）纯 度： 99.9% 99.99%（粒径纯度规格等支持按要求定制） 产品特点 UG-TN20产
|
2025-01-18 |
 |
弥散强化材料用氮化钛
技术参数 粒 度:纳米级（20nm50nm 100nm200nm500nm）纯 度： 99.9% 99.99%（粒径纯度规格等支持按要求定制） 产品特点 UG-TN20产
|
2025-01-18 |
 |
燃料电池的电极催化剂用氮化钛
技术参数 粒 度:纳米级（20nm50nm 100nm200nm500nm）纯 度： 99.9% 99.99%（粒径纯度规格等支持按要求定制） 产品特点 UG-TN20产
|
2025-01-18 |
 |
纳米二氧化锡用于光催化抗菌材料
UG-S20;UG-S50纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X—衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒度
|
2025-01-18 |
 |
电工及电子元件用纳米二氧化锡
UG-S20;UG-S50 纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X—衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。 颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒
|
2025-01-18 |
 |
银锡触头材料纳米二氧化锡
UG-S20;UG-S50 纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X—衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。 颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒
|
2025-01-18 |
 |
钢和玻璃的磨光剂纳米二氧化锡
UG-S20;UG-S50 纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X—衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。 颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒
|
2025-01-18 |
 |
纳米二氧化锡用于抗菌材料
UG-S20;UG-S50 纯 度：光谱法分析测试杂质含量。晶粒度：X—衍射（XRD）线宽化法平均晶粒的测定。 颗粒度：GB/T13221纳米粉末粒
|
2025-01-18 |
产品分类