Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:
|
基板尺寸 |
< Ф8 X 1wfr |
|
样品台 |
直接冷却（水冷）0-90 度旋转 |
|
离子源 |
16cm 考夫曼离子源 |
|
均匀性 |
±5% for 4”Ф |
|
硅片刻蚀率 |
20 nm/min |
|
温度 |
<100 |
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源KDC 160
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数：
|
离子源型号 |
离子源 KDC 160 |
|
Discharge |
DC 热离子 |
|
离子束流 |
>650 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
16 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
2-30 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
中和器 |
灯丝 |
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.
采用 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 可以去除损伤层, 保持原有黑硅结构的基础上使表面结构更加光滑.
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
