Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:
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基板尺寸 |
< Ф8 X 1wfr |
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样品台 |
直接冷却（水冷）0-90 度旋转 |
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离子源 |
16cm 考夫曼离子源 |
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均匀性 |
±5% for 4”Ф |
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硅片刻蚀率 |
20 nm/min |
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温度 |
<100 |
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 离子源是配伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：
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离子源型号 |
离子源 KDC 160 |
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Discharge |
DC 热离子 |
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离子束流 |
>650 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
16 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-30 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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中和器 |
灯丝 |
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.
试验利用迁移率谱分析了离子束刻蚀后的碲镉汞晶体, 发现 180μm 的 p 型碲镉汞晶体在刻蚀后完全转为 n 型, 且由两个不同电学特性的电子层组成:低迁移率的表面电子层和高迁移率的体电子层.
通过分析不同温度下的迁移率谱, 表明表面电子层的迁移率不随温度而变化, 而体电子层的迁移率随温度的变化与传统的n型碲镉汞材料一致.
不同厚度下的霍尔参数表明体电子层的电学性质均匀.
另外,通过计算得到表面电子层的浓度要比体电子层高 2—3 个数量级.
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