离子源助镀镀膜可改善膜层致密性、增加折射率、反射率, 提升产品性能指标.
某国内光学镀膜制造商为了制备 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用离子源辅助蒸镀 TiO_2薄膜.
经过与伯东工程师讨论, 该制造商最终采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380, 同时为了为镀膜工业提供稳定的合适的真空环境, 伯东工程师为制造商搭配大抽速分子泵组 Hicube 700 Pro, 采用金属密封, 极限真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 L/s, 很好保证成膜质量.
美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:
1. 大面积射频离子源
2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求
3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求
4. 离子束流: >1500 mA
5. 离子动能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自动控制器, 一键自动匹配
8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW
9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装
10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用
11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
运行结果：
与正常蒸镀工艺相比, 基片温度相同条件下, 使用 KRI 射频离子源 RFICP 380 辅助沉积工艺, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率；离子束助镀工艺激光器峰值功率离散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸镀工艺.
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