产品描述
上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 产品优势：
Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 技术参数：
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数:
|
portant;">
|
portant;">
基板尺寸 |
portant;">
< Ф3 inch X 8片 |
portant;">
|
|
portant;">
样品台 |
portant;">
样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转 |
||
|
portant;">
离子源 |
portant;">
20cm 考夫曼离子源 |
||
|
portant;">
均匀性 |
portant;">
±5% for 8”Ф |
||
|
portant;">
硅片刻蚀率 |
portant;">
20 nm/min |
||
|
portant;">
温度 |
portant;">
<100 |
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成：
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成:
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 蚀刻速率：
Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
