产品用途
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成
PECVD系统配置；
1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（单独购买）
产品特点
电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
系统名称
集成型PECVD系统
1200℃小型PECVD系统
系统型号
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控制方式
液晶屏微PLC控制系统
手动
最高温度
1200℃
加热区长度
200mm
恒温区长度
100mm
温区
单温区
石英管管径
Φ60mm
Φ50mm
额定功率
1.2Kw
2Kw
额定电压
220V
滑动方式及距离
自动滑动;200mm
手动滑动;200mm
温度控制
30段程序控温
50段程序控温
控制精度
±1℃
炉管最高工作温度
＜1200℃
气路法兰
采用多环密封技术卡箍快速连接
排风冷却装置
先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时，
排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。
气体控制方式
质量流量计（按键式）
气路数量
2路（2-4路）
4路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围
0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定
精度
±1%F.S
响应时间
1sec
工作温度（流量计）
20-120℃
工作压力
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）
进气方式
采用防倒流设计
规格
中真空（集成型请单独购买）
系统真空范围
10Pa-100Pa
